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Detalhes do Documento


DISSERTAÇÃO DE MESTRADO
Título Original (PT):
ESTUDO DE FLUTUAÇÕES DE POTENCIAIS EM POÇOS QUÂNTICOS DE INGAASN.
Autor:
CAVALCANTE, JONATAS DA SILVA
Email:
jonatasdasilvacavalcante@gmail.com
Instituição:
UNIVERSIDADE TECNOLÓGICA FEDERAL DO PARANÁ (UTFPR) - BRASIL
Unidade:
CENTRO DE PESQUISA EM MATERIAIS (CPM) - CURITIBA - PR
Local de Publicação:
UNESP
Data de Publicação:
2016
Área:
MULTIDISCIPLINAR
Área de Concentração:
MATERIAIS
Titulação:
MESTRE(A) EM MATERIAIS
Orientador:
Dr. BARRETO DE OLIVEIRA, JOSÉ BRÁS
Banca Examinadora:
Drª. SAEKI, MARGARIDA JURI
Dr. BARRETO DE OLIVEIRA, JOSÉ BRÁS
Dr. LOURENÇO, SIDNEY ALVES
Data de Defesa:
30/03/2016
Palavras-Chave (PT):
DISPOSITIVOS OPTELETRÔNICOS
FOTOLUMINESCÊNCIA
INGAASN
POÇO QUÂNTICO
Resumo Original (PT):
ESTE TRABALHO INVESTIGA AS PROPRIEDADES ÓPTICAS DE UM SISTEMA SEMICONDUTOR QUE TEM ALTO POTENCIAL PARA APLICAÇÃO EM OPTOELETRÔNICA. AS AMOSTRAS ESTUDADAS SÃO BASEADAS NO SISTEMA INXGA1-XAS0,984N0,016/GAAS, A CONCENTRAÇÃO X DE ÍNDIO ENCONTRA-SE NA FAIXA DE 0,26 A 0,43 E FORAM CRESCIDAS NAS TEMPERATURAS DE 400°C E 430°C E, PASSARAM POR TRATAMENTO TÉRMICO, A TEMPERATURA DE 720 °C, DURANTE O TEMPO DE 30 MIN. EM AMBAS AMOSTRAS A ESPESSURA DO POÇO É DE 6,5 NM. A TÉCNICA UTILIZADA NA INVESTIGAÇÃO É A FOTOLUMINESCÊNCIA, QUE PERMITE ANALISAR O COMPORTAMENTO DE PORTADORES EM DIFERENTES FAIXAS DE TEMPERATURA E REGIMES DE EXCITAÇÃO, PARA CARACTERIZAR A QUALIDADE ESTRUTURAL DAS AMOSTRAS. NO ESTUDO PROCURAMOS COMPREENDER O COMPORTAMENTO DAS EMISSÕES ÓPTICAS ANALISANDO A LARGURA DE LINHA A MEIA ALTURA (FWHM) DA EMISSÃO, A VARIAÇÃO DO BAND GAP COM A TEMPERATURA E A LOCALIZAÇÃO E ATIVAÇÃO TÉRMICA DOS PORTADORES DE CARGA.
Título (EN):
NÃO CONSTA
Palavras-Chave (EN):
INGAASN
OPTOELECTRONIC DEVICES
PHOTOLUMINESCENCE
QUANTUM WELL
Resumo Original (EN):
THIS WORK INVESTIGATES THE OPTICAL PROPERTIES OF A SEMICONDUCTOR SYSTEM WHICH HAS HIGH POTENTIAL FOR APPLICATION IN OPTOELECTRONICS. THE SAMPLES STUDIED ARE BASED ON INXGA1-XAS0,984N0,016 / GAAS SYSTEM, THE INDIUM CONCENTRATION X IS IN THE RANGE FROM 0.26 TO 0.43, AND WERE GROWN AT TEMPERATURES OF 400 °C AND 430 °C AND RECEIVED THERMAL TREATMENT, AT 720 OC, DURING 30 MINUTES. IN BOTH SAMPLES THE WELL THICKNESS IS 6.5 NM. THE TECHNIQUE USED IN THE INVESTIGATION IS THE PHOTOLUMINESCENCE, WHICH ALLOWS TO ANALYZE THE BEHAVIOR OF CARRIERS IN DIFFERENT TEMPERATURE RANGES AND EXCITATION REGIMES, IN ORDER TO CHARACTERIZE THE STRUCTURAL QUALITY OF THE SAMPLES. IN THE STUDY WE SOUGHT TO UNDERSTAND THE BEHAVIOR OF THE OPTICAL EMISSIONS BY ANALYZING THE FULL WIDTH AT HALF-MAXIMUM (FWHM) OF THE EMISSION LINE, THE VARIATION OF THE BAND GAP WITH TEMPERATURE AND THE TRAPPING AND THERMAL ACTIVATION OF CHARGE CARRIERS.
Arquivo:
DIS_MEST20160330_CAVALCANTE JONATAS DA SILVA.pdf
Tamanho:
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Tempo Estimado Para Download:
1 MINUTO(S) (VELOCIDADE DE CONEXÃO DE 56 Kb/s)
Criado:
10/06/2016 ÀS 16:03:02
Atualizado:
10/06/2016 ÀS 16:03:02
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12/07/2024 ÀS 22:40:38
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