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TESE DE DOUTORADO
Título Original (PT):
ESTUDO DAS PROPRIEDADES ÓPTICAS E VIBRACIONAIS DE FILMES DE GAN DOPADOS COM MN ELABORADOS POR RF MAGNETRON SPUTTERING REATIVO
Autor:
FERREIRA, GUILHERME
Email:
guilherme_fis@hotmail.com
Instituição:
UNIVERSIDADE ESTADUAL PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO (UNESP) - BRASIL
Unidade:
FACULDADE DE CIÊNCIAS (FC) - BAURU - SP
Local de Publicação:
BAURU
Data de Publicação:
2014
Área:
MULTIDISCIPLINAR
Área de Concentração:
MATERIAIS
Titulação:
DOUTOR(A) EM MATERIAIS
Orientador:
Dr. TABATA, AMERICO SHEITIRO
Banca Examinadora:
Dr. SCALVI, LUIZ VICENTE ANDRADE
Dr. TABATA, AMERICO SHEITIRO
Drª. SANTOS, DAYSE IARA DOS
Dr. LEVINE, ALEXANDRE
Dr. DOS ANJOS, VIRGILIO DE CARVALHO
Data de Defesa:
27/05/2014
Palavras-Chave (PT):
GA1−XMNXN
GAN
SEMICONDUTOR MAGNÉTICO DILUÍDO
SPUTTERING
Resumo Original (PT):
O NITRETO DE GÁLIO (GAN) TÊM RECEBIDO GRANDE ATENÇÃO NOS ÚLTIMOS ANOS DEVIDO A SUA POSSÍVEL APLICAÇÃO EM SEMICONDUTOR MAGNÉTICO DILUÍDO (DMS) PELA INCORPORAÇÃO DE ÍONS COMO O MANGANÊS (MN). NO ENTANTO, A PREPARAÇÃO DESTES TIPOS DE AMOSTRAS TEM SIDO CONSEGUIDA NOS ÚLTIMOS ANOS USANDO EPITAXIA POR FEIXE MOLECULAR (?MOLECULAR BEAM EPITAXY?, MBE) E DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO COM PRECURSORES METALORGÂNICOS (?METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION?, MOCVD), QUE SÃO TÉCNICAS DE CRESCIMENTO MUITO CARAS E NECESSITAM DE CONDIÇÕES ESPECIAIS DE SUBSTRATO, TAL COMO ALTA TEMPERATURA DE CRESCIMENTO. UMA ALTERNATIVA É A UTILIZAÇÃO DE TÉCNICAS DE CRESCIMENTO COMO O ?SPUTTERING?. A VANTAGEM DESTA TÉCNICA DE ?SPUTTERING? É O BAIXO CUSTO E A POSSIBILIDADE DE CRESCIMENTO DE FILME EM TEMPERATURA RELATIVAMENTE BAIXA. NESTE TRABALHO, FORAM REALIZADAS MEDIDAS DE FOTOLUMINESCÊNCIA, ESPECTROSCOPIA RAMAN E ESPECTROSCOPIA NO INFRAVERMELHO NOS FILMES DE GA1−XMNXN E GAN OBTIDOS POR RF MAGNETRON SPUTTERING REATIVO. OS ESPECTROS DE FOTOLUMINESCÊNCIA PROPORCIONARAM O ENTENDIMENTO DA CONCENTRAÇÃO MÁXIMA DE MN INCORPORADO NOS FILMES DE GA1−XMNXN. AINDA, OS DADOS REVELARAM A PRESENÇA DE EMISSÕES DE FOTOLUMINESCÊNCIA EM APROXIMADAMENTE 3,31 EV ATRIBUÍDA À INCORPORAÇÃO DE MN, EM APROXIMADAMENTE 3,35 EV ATRIBUÍDA À CONTAMINAÇÃO POR HIDROGÊNIO E EM 3,36 EV ATRIBUÍDA A ÉXCITON LIGADO A FALHA DE EMPILHAMENTO. OS DADOS DE FOTOLUMINESCÊNCIA SÃO CONSISTENTES COM OS DADOS DE ESPECTROSCOPIA RAMAN QUE MOSTRAM O EFEITO DA TENSÃO SOBRE OS MODOS VIBRACIONAIS COM O AUMENTO DA CONCENTRAÇÃO DE MN. ISTO OCORRE DEVIDO À DIFERENÇA DE RAIO IÔNICO DO MN EM RELAÇÃO AO GA QUE GERA TENSÃO NA ESTRUTURA DO CRISTAL. ESTES RESULTADOS PROPORCIONAM UM MELHOR ENTENDIMENTO DO PROCESSO DE CRESCIMENTO DE FILMES DE GAN E GA1−XMNXN POR RF MAGNETRON SPUTTERING REATIVO.
Título (EN):
NÃO CONSTA
Palavras-Chave (EN):
DILUTED MAGNETIC SEMICONDUCTOR
GA1−XMNXN
GAN
SPUTTERING
Resumo Original (EN):
GALLIUM NITRIDE (GAN) HAS GAINED AN UNPRECEDENTED ATTENTION IN THE LAST YEARS DUE TO THEIR POSSIBLE APPLICATION IN DILUTE MAGNETIC SEMICONDUCTOR (DMS) BY INCORPORATION OF IONS LIKE MN. HOWEVER, THE PREPARATION OF THESE SAMPLES IS VERY COMPLICATED AND HAS BEEN ACHIEVED ONLY IN THE PAST FEW YEARS BY USING MOLECULAR BEAM EPITAXY AND METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, WICH ARE VERY EXPENSIVE TECHNIQUES AND REQUIRE SPECIAL CONDITION LIKE HIGH TEMPERATURE OF GROWTH. ONE ALTERNATIVE ROUTE IS TO USE GROWTH TECHNIQUES LIKE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING. THE ADVANTAGE OF SPUTTERING TECHNIQUE IS THE LOW COST AND THE POSSIBILITY TO GROW FILM AT RELATIVELY LOW TEMPERATURE. IN THIS WORK, WE PERFORM MEASUREMENTS OF PHOTOLUMINESCENCE, RAMAN SPECTROSCOPY AND INFRARED SPECTROSCOPY IN GA1−XMNXN AND GAN FILMS OBTAINED BY RF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING. THE PHOTOLUMINESCENCE SPECTRA HAVE PROVIDED THE UNDERSTANDING OF THE MAXIMUM MN CONCENTRATION IN GA1−XMNXN FILMS. IN ADDITION, THE DATA REVEALED THE PRESENCE OF PHOTOLUMINESCENCE EMISSION, AROUND 3.31 EV ASSIGNED BY INCORPORATION OF MN, AROUND 3.35 EV ASSIGNED BY HYDROGEN AND 3.36 EV ASSIGNED BY EXCITON BOUND TO STACKING FAULTS. THE PHOTOLUMINESCENCE DATA IS CONSISTENT WITH RAMAN SPECTROSCOPY DATA THAT SHOW THE TENSION EFFECT AT THE VIBRATIONAL MODES WITH INCREASING MN CONCENTRATION. THIS IS DUE TO THE DIFFERENCE IN IONIC RADIUS OF MN RELATIVE TO GA THAT GENERATES TENSIONS IN THE CRYSTAL LATTICE. THESE RESULTS ALLOW UNDERSTANDING THE GROWTH PROCESS OF GAN AND GA1−XMNXN FILMS BY RF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING.
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Criado:
03/09/2014 ÀS 14:41:20
Atualizado:
03/09/2014 ÀS 14:41:20
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02/05/2024 ÀS 03:08:07
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