DISSERTAÇÃO DE MESTRADO |
Título Original (PT): |
CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE POLÍMEROS ENTRECRUZÁVEIS COMO CAMADA DIELÉTRICA EM DISPOSITIVOS DE ELETRÔNICA ORGÂNICA |
Autor: |
SUSSUMU YWATA, RICARDO |
Email: |
ricardo_ywata@ig.com.br |
Instituição: |
UNIVERSIDADE ESTADUAL PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO (UNESP) - BRASIL |
Unidade: |
FACULDADE DE CIÊNCIAS (FC) - BAURU - SP |
Local de Publicação: |
UNESP |
Data de Publicação: |
2012 |
Área: |
MULTIDISCIPLINAR |
Área de Concentração: |
MATERIAIS |
Titulação: |
MESTRE(A) EM MATERIAIS |
Orientador: |
Dr. GIACOMETTI, JOSE ALBERTO |
Banca Examinadora: |
♠ Dr. GIACOMETTI, JOSE ALBERTO ♠ Dr. CRUZ, NILSON CRISTINO ♠ Dr. FELIX DE CARVALHO, ANTONIO JOSE
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Data de Defesa: |
11/06/2012 |
Palavras-Chave (PT): |
♠ CONDUÇÃO ELÉTRICA ♠ DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS ♠ FOTORESISTE ♠ POLI(AMIDA-IMIDA) ♠ POLI(FENIL-METILSILSESQUIOXANO) ♠ PROPRIEDADES DIELÉTRICAS
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Resumo Original (PT): |
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O OBJETIVO DESTE TRABALHO É A CARACTERIZAÇÃO DE POLÍMEROS ISOLANTES ELÉTRICOS
PARA SEU USO NA FABRICAÇÃO DE DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS ORGÂNICOS. OS POLÍMEROS ESTUDADOS
FORAM: A POLI(AMIDA-IMIDA), PAI, POLI(FENIL-METILSILSESQUIOXANO), PSQ, E O FOTORESISTE SU8.
O PROCESSO DE FABRICAÇÃO DOS FILMES POLIMÉRICOS FOI REALIZADO PELA TÉCNICA DE SPIN-COATING
E ELES FORAM SUBMETIDOS A UM PROCESSO DE CURA APROPRIADO PARA O ENTRECRUZAMENTO DAS
CADEIAS POLIMÉRICAS. OS FILMES FORAM CARACTERIZADOS POR ESPECTROSCOPIA DE IMPEDÂNCIA E
MICROSCOPIA DE FORÇA ATÔMICA (AFM). CURVAS DE CAPACITÂNCIA E TANδ TAMBÉM FORAM
ANALISADAS E VALORES MENORES QUE 10-2 FORAM ENCONTRADAS PARA A TANδ INDICANDO QUE OS
POLÍMEROS SÃO BONS ISOLANTES ELÉTRICOS.
CURVAS CARACTERÍSTICAS DE CORRENTE VERSUS DIFERENÇA DE POTENCIAL ELÉTRICO (DDP)
EM DIFERENTES TEMPERATURAS FORAM OBTIDAS PARA TODOS OS FILMES. A CONDUÇÃO ELÉTRICA FOI
ANALISADA E CONCLUIU-SE QUE O PROCESSO DE CONDUÇÃO PREDOMINANTE NOS FILMES POLIMÉRICOS É
POR INJEÇÃO DE CARGAS POR EFEITO SCHOTTKY. A ALTURA DA BARREIRA DE INJEÇÃO POLÍMERO/METAL
CALCULADA FOI DA ORDEM DE 1,1 EV PARA O PSQ E 1,2 EV PARA O SU8 E PAI.
FINALMENTE, É APRESENTADA UMA BREVE DESCRIÇÃO DAS CARACTERÍSTICAS DE UM
DISPOSITIVO METAL-ISOLANTE-METAL (MIS) USANDO O POLÍMERO PAI COMO CAMADA ISOLANTE. É
MOSTRADO TAMBÉM QUE OS FILMES FINOS DE PAI APRESENTAM O FENÔMENO DE CHAVEAMENTO
RESISTIVO DA CORRENTE DE CONDUÇÃO, O QUE PODE SER APLICADO EM MEMÓRIA DE CHAVEAMENTO
RESISTIVA. |
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Título (EN): |
NÃO CONSTA |
Palavras-Chave (EN): |
♠ ELECTRICAL CONDUCTION ♠ ELECTRICAL PROPERTIES ♠ ELECTRONIC DEVICES ♠ PHOTORESIST ♠ POLY(AMIDE-IMIDE) ♠ POLY(PHENYL-METHYLSILSESQUIOXANE)
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Resumo Original (EN): |
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THIS WORK AIMS THE THIN FILMS CHARACTERIZATION OF ELECTRIC INSULATING POLYMERS
FOR THE FABRICATION OF ORGANIC ELECTRONIC DEVICES: THE POLY(AMIDE-IMIDE), PAI, POLY(PHENYLMETHYLSILSESQUIOXANE),
PSQ, AND THE SU8 PHOTORESIST. THE MANUFACTURING PROCESS OF THE
POLYMER FILMS WAS PERFORMED BY SPIN-COATING AND THEY WERE SUBMITTED TO THE APPROPRIATED
CURING PROCESS IN ORDER TO PROMOTE THE CROSS-LINKING OF POLYMERIC CHAINS. THE THIN FILMS
WERE CHARACTERIZED BY USING ELECTRIC IMPEDANCE TECHNIQUE AND SCANNING ATOMIC FORCE
MICROSCOPY (AFM). CURVES OF CAPACITANCE AND TANδ WERE ALSO ANALYZED AND VALUES SMALLER
THAN 10-2 WERE FOUND FOR TANδ INDICATING THAT THE POLYMERS ARE GOOD ELECTRICAL INSULATORS.
CURRENT VERSUS VOLTAGE CHARACTERISTICS CURVES AT DIFFERENT TEMPERATURES WERE
OBTAINED FOR ALL FILMS. THE ELECTRICAL CONDUCTION WAS ANALYZED AND IT WAS CONCLUDED THAT THE
CONDUCTION PROCESS ON POLYMERIC FILMS ARE DOMINATED BY SCHOTTKY CHARGE INJECTION. THE
INJECTION BARRIER HEIGHT OF POLYMER/METAL WAS FOUND TO BE OF THE ORDER OF 1.1 EV FOR PSQ
AND 1.2 EV FOR SU8 AND PAI.
FINALLY, IS PRESENTED A BRIEF SUMMARY OF A METAL-INSULATOR-SEMICONDUCTOR (MIS)
DEVICE CHARACTERISTICS USING THE PAI POLYMER AS AN INSULATING LAYER. IT IS ALSO SHOWN THAT THE
THINNER PAI POLYMERIC FILMS PRESENTS THE ELECTRICAL CONDUCTION SWITCHING THAT COULD BE
APPLIED IN RESISTIVE SWITCHING MEMORIES. |
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Arquivo: |
DIS_MEST20120611_SUSSUMU YWATA RICARDO.pdf
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Tamanho: |
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Tempo Estimado Para Download: |
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Criado: |
02/07/2012 ÀS 15:11:24 |
Atualizado: |
02/07/2012 ÀS 15:11:24 |
Visitas: |
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20/04/2025 ÀS 22:26:18 |
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