| DISSERTAÇÃO DE MESTRADO |
Título Original (PT): |
PROPRIEDADES ESTRUTURAIS E ÓPTICAS DE FILMES FINOS A-C:H:CL OBTIDOS POR DEPOSIÇÃO À VAPOR QUÍMICO ASSISTIDO POR PLASMA E DEPOSIÇÃO E IMPLANTAÇÃO IÔNICA POR IMERSÃO EM PLASMA |
Autor: |
TURRI, RAFAEL GUSTAVO |
Email: |
rafaelgturri@yahoo.com.br |
Instituição: |
UNIVERSIDADE ESTADUAL PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO (UNESP) - BRASIL |
Unidade: |
UNIDADE DE SOROCABA (---) - SOROCABA - SP |
Local de Publicação: |
BAURU - SOROCABA |
Data de Publicação: |
2011 |
Área: |
MULTIDISCIPLINAR |
Área de Concentração: |
MATERIAIS |
Titulação: |
MESTRE(A) EM MATERIAIS |
Orientador: |
Dr. DURRANT, STEVEN FREDERICK |
Banca Examinadora: |
♠ Dr. SILVA, JOSE HUMBERTO DIAS DA
♠ Dr. DURRANT, STEVEN FREDERICK
♠ Dr. AVALOS, DANIEL ACOSTA
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Data de Defesa: |
16/12/2011 |
Palavras-Chave (PT): |
♠ FILMES FINOS
♠ PECVD
♠ PIID
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Resumo Original (PT): |
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FORAM PRODUZIDOS FILMES FINOS AMORFOS DE CARBONO HIDROGENADO COM INCORPORAÇÃO DE
CLORO POR DUAS TÉCNICAS: (I) DEPOSIÇÃO À VAPOR QUÍMICO ASSISTIDO POR PLASMA (PECVD) E (II)
IMPLANTAÇÃO IÔNICA E DEPOSIÇÃO POR IMERSÃO EM PLASMA (PIIID). OS FILMES FORAM PRODUZIDOS
A PARTIR DE MISTURAS DE C2H2, CHCL3 E ARGÔNIO. FORAM INVESTIGADOS OS EFEITOS DA IMPLANTAÇÃO
IÔNICA NA ESTRUTURA QUÍMICA E NAS PROPRIEDADES ÓPTICAS DOS FILMES. AS ALTERAÇÕES NA ESTRUTURA
DOS FILMES FORAM ANALISADAS POR ESPECTROSCOPIA DE INFRAVERMELHO POR TRANSFORMADA DE FOURIER
(FTIR) E ESPECTROSCOPIA DE FOTOELÉTRONS DE RAIO-X (XPS). OS EFEITOS PROVOCADOS NAS
PROPRIEDADES ÓPTICAS FORAM ESTUDADOS PELA COMPARAÇÃO DE CONSTANTES ÓPTICAS CALCULADAS A
PARTIR DE ESPECTROS DE TRANSMITÂNCIA ULTRAVIOLETA ? VISÍVEL ? INFRAVERMELHO PRÓXIMO. FORAM
CALCULADOS O ÍNDICE DE REFRAÇÃO, O COEFICIENTE DE ABSORÇÃO DOS FILMES O E GAP ÓPTICO POR
MODELOS DISTINTOS. AS ESPESSURAS DOS FILMES FORAM MEDIDAS DIRETAMENTE POR PERFILOMETRIA E OS
RESULTADOS FORAM COMPARADOS COM VALORES OBTIDOS POR CÁLCULO INDIRETO UTILIZANDO OS DADOS
ESPECTRAIS. ALTERAÇÕES DE MOLHABILIDADE FORAM ESTUDADAS A PARTIR DE MEDIDAS DE ÂNGULO DE
CONTATO. OS RESULTADOS DAS CARACTERIZAÇÕES DE FTIR E XPS REVELARAM A PRESENÇA DE CLORO NOS
FILMES. O ÍNDICE DE REFRAÇÃO DOS FILMES PRODUZIDOS POR PIIID APRESENTOU A TENDÊNCIA DE SER
MAIOR DO QUE DOS FILMES PRODUZIDOS POR PECVD SOB AS MESMAS CONDIÇÕES. O AUMENTO DO
TEOR DE CHCL3 NA MISTURA DE COMPOSTOS UTILIZADA NA PRODUÇÃO DOS FILMES RESULTOU NO AUMENTO
DO GAP ÓPTICO E NO AUMENTO NA TAXA DE DEPOSIÇÃO DOS FILMES PARA OS DOIS PROCESSOS. OS FILMES
CLORADOS PRODUZIDOS PELOS DOIS PROCESSOS APRESENTARAM ÂNGULO DE CONTATO RELATIVAMENTE
PRÓXIMO AO ÂNGULO DE CONTATO DO PVC COMERCIAL. |
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Título (EN): |
STRUCTURAL AND OPTICAL PROPERTIES OF A-C:H:CL THIN FILMS PRODUCED BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION AND DEPOSITION |
Palavras-Chave (EN): |
♠ THIN FILMS
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Resumo Original (EN): |
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AMORPHOUS HYDROGENATED CARBON THIN FILMS ALSO CONTAINING CHLORINE WERE PRODUCED BY
TWO TECHNIQUES: (I) PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (PECVD), AND (II) PLASMA
IMMERSION ION IMPLANTATION AND DEPOSITION (PIIID). THE FILMS WERE PRODUCED FROM MIXTURES
OF C2H2, CHCL3 AND AR. THE EFFECTS OF ION IMPLANTATION ON THE FILM STRUCTURAL AND OPTICAL
PROPERTIES WERE INVESTIGATED. DIFFERENCES IN THE CHEMICAL STRUCTURE OF THE FILMS WERE REVEALED
BY FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY (FTIR) AND X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY
(XPS). CHANGES PRODUCED IN THE OPTICAL PROPERTIES WERE STUDIED BY COMPARISON OF THE OPTICAL
CONSTANTS CALCULATED FROM ULTRAVIOLET ? VISIBLE ? NEAR INFRARED TRANSMITTANCE SPECTRA. THE
REFRACTIVE INDEX, ABSORPTION COEFFICIENT AND OPTICAL GAP WERE CALCULATED USING DISTINCT MODELS.
THE THICKNESSES OF THE FILMS WERE MEASURED DIRECTLY BY PERFILOMETRY AND THE RESULTS COMPARED
WITH VALUES OBTAINED BY INDIRECT CALCULATIONS BASED ON THE SPECTRAL DATA. ALTERATIONS IN
WETTABILITY WERE EXAMINED VIA CONTACT ANGLE MEASUREMENTS. EVIDENCE FOR THE PRESENCE OF
CHLORINE IN THE FILMS WAS OBTAINED FROM THE FTIR AND XPS SPECTRA. THE REFRACTIVE INDICES OF
THE FILMS PRODUCED BY PIIID TENDED TO BE HIGHER THAN THOSE OF THE FILMS PRODUCED BY PECVD
UNDER THE SAME CONDITIONS. INCREASES IN THE OPTICAL GAPS AND THE DEPOSITION RATES OF FILMS
PRODUCED BY THE TWO PROCESSES WERE OBSERVED AS THE PROPORTION OF CHCL3 IN THE PLASMA FEED
INCREASED. THE CHLORINATED FILMS PRODUCED BY THE TWO PROCESS EXHIBITED CONTACT ANGLES
RELATIVELY CLOSE TO THAT OF COMMERCIAL PVC. |
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Arquivo: |
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Criado: |
03/02/2012 ÀS 08:38:30 |
Atualizado: |
03/02/2012 ÀS 08:38:30 |
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